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X63W臥式銑床的拋光盤時(shí)間:2012-06-09 11:01 來源:m.jusi-it.com 作者:X63W臥式銑床
粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過X63W臥式銑床也應(yīng)當(dāng)盡可能小；其次是精拋(或稱終拋)，銑床X53K其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，X63W臥式銑床使拋光損傷減到最小。磨光機(jī)拋光時(shí)，銑床X53K試樣磨面與拋光盤應(yīng)絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上，X63W臥式銑床注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。銑床X53K還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動。
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