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        銑床X5040要求使用較粗的磨料，X62W臥式銑床以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；銑床X5040的后者要求使用最細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，X62W臥式銑床的拋光速率低。拋光要點(diǎn)解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。銑床X5040的粗拋目的是去除磨光損傷層，X62W臥式銑床這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率。